中国半导体设备领军企业屹唐半导体正式起诉美国半导体巨头应用材料公司，索赔9999万元人民币，指控其通过挖角前员工窃取价值12亿元的核心技术专利。此案已由北京知识产权法院受理，标志着中国企业开始通过法律手段捍卫自主研发成果。
侵权事实：
应用材料公司通过招募屹唐半导体两名前员工，非法获取并利用了公司的关键商业秘密。
这两名前员工违反了保密协议，将涉及等离子体源和晶圆表面处理的核心工艺资料带至应用材料公司，并成为相关专利的发明人。
技术价值：
被窃取的技术为屹唐半导体耗时5年、投入超12亿元研发的第三代等离子体源技术。
该技术可提升刻蚀均匀性20%，显著降低先进工艺中的良率损耗，是芯片制造的关键环节。
行业背景：
应用材料公司为全球三大半导体设备巨头之一，2024年营收超250亿美元，专利保护刻蚀设备全球市场份额约35%。
屹唐半导体凭借自主研发的干法去胶技术，已在14nm及更先进制程设备领域突破美日技术壁垒。
案件意义：
此案是中美半导体领域摩擦的典型案例，反映中国企业正积极应对技术窃取行为。
数据显示，2023年中国半导体高端人才流失至美企的比例达35%，技术安全形势严峻。
案件进展：
目前法院已受理此案，专利保护预计诉讼周期较长。无论结果如何，此案释放出中国企业对核心技术侵权行为零容忍的明确信号。
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